量子科技中心_量科网

美国纽约大学坦登工程学院与布鲁克海文国家实验室联合发表了一项新研究论文，它揭示了基底的选择对超导钒硅化物薄膜的相形成和界面稳定性的影响，为提升材料质量提供了设计参考。据介绍，研究团队在晶体氧化铪基底上进行了实验，并将其与标准二氧化硅基底在相同工艺条件下进行对比。结果显示，氧化铪基底具有更高的化学稳定性，可以抑制不必要的次级相生成，但在最高加工温度下仍会出现降解。该研究不仅为钒硅化物体系提供了基础性认知，也可为其他超导硅化物体系的材料设计提供参考。相关研究成果已于日前发表在《应用物理快报》期刊。