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韩国大邱庆北科学技术院（DGIST）能源科学与工程系的一个研究团队开发出一种直接光刻技术，该技术无需光刻胶，仅利用光就能实现以超高分辨率刻蚀量子点。通过这一技术，该研究团队还提供了选择交联剂的指导，这对制造高性能量子点发光二极管（QLED）至关重要。这一成果被认为是一项核心基础技术，可应用于包括微型QLED、超高分辨率显示器、透明电子器件以及下一代图像传感器在内的广泛光电器件领域。相关研究结果已分别发表在材料化学领域的权威期刊《纳米快报》和《美国化学会·纳米》上。