DGIST科学家开发的DOL技术可对量子点进行超高分辨率刻蚀

来自大邱庆北科学技术院(DGIST)能源科学与工程系的研究人员开发出了一种直接光学光刻(DOL)技术,可在无需光刻胶的情况下,仅使用光便可对量子点进行超高分辨率刻蚀。同时,团队还…
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