康奈尔大学低温钽沉积新工艺,200°C可制备高质量量子比特薄膜

康奈尔大学的一个研究团队日前在《自然·材料》发表一项成果,利用氪气将钽在硅基底上的沉积温度降至200°C,而传统方法所需温度接近400°C。该方法以氪气替代氩气作为离子化气体,借…
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