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釜山大学研究人员开发出无破坏性的通用量子点直接光刻图案化技术

韩国釜山大学的一个研究团队近日提出了一种通用、无光刻胶且无破坏性的量子点（QD）直接光刻图案化技术，为量子点精密加工开辟了新途径。据研究人员介绍，不同于传统方法中对量子点进行化学改性的做法，他们设计了一种交联的混合发光层（b-EML）。该发光层由量子点、空穴传输聚合物以及少量紫外线（UV）活化交联剂混合而成，可在保持量子点完整性的同时，实现高精度图案化。相关研究成果已于日前发表在《先进功能材料》期刊。

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