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单层二硫化钼（MoS₂）长期以来一直是展示谷电子行为的典型材料，然而，声子如何引发其激子态的谷去极化仍不明确。该研究团队采用了一种混合量子-经典模拟框架，以研究在短时间内声子对谷极化的影响机制。该框架结合了倒易空间表面跳跃方法、准粒子能带结构的微观模型以及电子-空穴和载流子-声子相互作用，这些参数基于从头计算，同时保留了瞬态声子占据数的明确信息。通过这种占据数，模拟显示最低激子带与主要光学声子分支之间的共振在很大程度上驱动了谷去极化，通过激活Maialle-Silva-Sham机制实现。由此产生的谷极化时间与跨温度的实验测量结果一致。