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量子态和过程层析通常基于设备发射独立同分布（i.i.d.）态或通道的假设进行分析。然而在实际实验中，噪声、漂移、反馈或对抗行为会违背这一假设。该研究团队证明，即使在完全自适应的量子态和通道制备条件下，投影最小二乘层析仍能保持统计最优性。具体而言，该工作证实了重构时间平均态或通道所需的样本复杂度，与非自适应单拷贝测量的最优i.i.d.标度一致。对于秩为r的量子态，为达到迹距离精度ε所需的样本复杂度为𝒪(dr²/ε²)；而对于过程层析，为达到钻石范数精度ε所需的样本复杂度为𝒪(d⁶/ε²)。因此，放弃i.i.d.假设并不会增加量子层析的基本样本复杂度，仅会改变重构对象的解释方式。