用于超快绝热量子门的脉冲整形
量子计算领域的一个核心挑战在于如何提升量子比特相干时间内的操作数量。虽然缩短门操作时长可实现这一目标,但更短的控制信号会增大带宽,导致能量分离态的泄漏。针对短脉冲的泄漏抑制,传统采用“绝热门导数消除”(DRAG)方法,但该方法依赖射频信号的IQ调制,无法应用于基带信号控制(如半导体自旋量子比特)。该研究团队提出创新性“延迟泄漏抑制”(DLR)技术,通过引入控制信号的时间延迟重复,即使在基带控制下也能实现目标频率的泄漏抑制,从而执行快速、高保真度操作。研究人员将DLR应用于两个自旋量子比特间的绝热CZ门,在仅100MHz共振频率差条件下,于9.4纳秒内实现了超过99.9%的保真度。为推进该控制方法的实验实现,该工作同时评估了控制脉冲生成电子设备采样率对保真度的影响,从而为实验验证设置了最低硬件要求标准。
