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光量子计算先驱Xanadu与三菱化学近日启动了一个合作项目，以共同开发用于模拟极紫外 （EUV） 光刻中量子过程的新型量子算法。这项技术是实现更微型、更复杂微芯片制造的关键。在该合作中，三菱化学材料设计实验室将提供有关EUV光刻胶材料的专业知识，包括其分子结构、成分和反应性，并将提供对关键物理过程的基本理解和定量分析（如EUV吸收、俄歇衰变和二次电子效应）。Xanadu的量子算法团队将负责设计用于模拟光-物质相互作用和二次电子效应的量子算法。