2026年2月25日——光量子计算领域全球领先企业Xanadu量子技术公司与日本主要化工制造商三菱化学合作，宣布发布一篇新论文，详细阐述了一种用于半导体芯片研发的新型量子模拟技术。该预印研究论文提出了一种可扩展的技术，用于模拟极紫外光刻（EUV）中涉及的量子过程，EUV光刻是一种对开发最先进半导体芯片至关重要的晶圆图案化技术。

EUV光刻是制造先进半导体芯片的主要工具之一。然而，这一工艺常常受到一种称为辐射诱导模糊的复杂现象的困扰，这种现象会降低最终芯片的性能。这种现象的关键步骤本质上具有高度量子特性，难以用现有的经典计算方法进行模拟。该论文提出了一套新型量子模拟算法，可用于减少这些模糊效应，克服制造更先进芯片的困难障碍。

“精确模拟材料与EUV光相互作用的过程是半导体行业面临的一项艰巨挑战，”Xanadu创始人兼首席执行官Christian Weedbrook表示。“通过使用量子算法模拟EUV敏感性，Xanadu已经制定了一个蓝图，展示了如何利用量子计算机解决当今半导体市场面临的一些最相关的问题。”

这项工作表明，其中一种旨在在实用级容错量子计算机（FTQC）上运行的关键方法，能够预测EUV光吸收光谱的关键细节。对于目标模型系统，如4-碘-2-甲基苯酚，该算法展示了满足严格资源要求的潜力，目标是使用少于500个量子比特，这对于在早期FTQC机器（如Xanadu设想的机器）上执行至关重要。

“准确模拟驱动EUV诱导模糊的耦合电子和化学动力学一直是半导体行业长期面临的挑战。三菱化学很高兴与Xanadu合作，将量子模拟应用于EUV光刻胶设计。这些结果展示了模拟限制光刻分辨率的复杂辐射驱动过程的有前景的方法，”三菱化学高级首席科学家高琦表示。

通过合作，Xanadu和三菱化学为量子计算在半导体领域的应用建立了首批具体的工业用例之一。通过提供一种准确模拟和减少EUV光刻中辐射诱导模糊的方法，这项工作为开发更小、更复杂的半导体芯片铺平了道路。