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英国华威大学的一个研究团队最近在电子学领域取得了重大突破。据于日前发表在《今日材料》期刊上的一项新研究，他们成功开发出一种利用了硅基纳米级薄膜、压缩应变锗外延层的新型量子材料，这种材料显著提升了电荷的移动速度，同时与现代芯片制造技术兼容。这项研究为超高速、低功耗电子器件的研发开辟了全新路径，并预计将在量子信息处理、自旋量子比特、量子处理器的低温控制器、人工智能以及数据中心硬件等领域得到广泛应用，尤其是在减少能耗和冷却需求方面具有重要潜力。