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不列颠哥伦比亚大学（UBC）的一个研究团队最近报告了一种新型材料平台，该平台在多种过渡金属二硫化物（TMD）化合物中普遍存在平带。他们的这一成果是通过插层技术实现的，即离子可逆地插入主晶格中。研究团队不仅展示了在TMD化合物中生成平带的可能性，还证明了平带的位置可以在能量尺度上进行调整。研究人员表示，生成平带并将其调整至费米能级的能力是开发具有更好间隙保护的超导量子材料的关键，这种材料将对量子退相干具有更强的抵抗力。