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实现约瑟夫森结之间均匀的临界电流对于超导量子电路的大规模集成至关重要。本工作利用室温隧道电阻统计分析了Al/AlO\({\rm x}\)/Al结临界电流的变异，并根据变异源对结几何结构和沉积条件的依赖性，识别了建模变异源中的主导贡献。基于模型的该分析表明，在建模的各贡献因素中，铝膜厚度的波动起主导作用。基于此分析，该团队发现，在Dolan桥双角度沉积中，对双层结采用30度沉积角可显著改善均匀性，在9.75毫米（1.5毫米）方形区域内相对标准偏差达到1.2%（0.5%）。