非均匀哈密顿量淬火后的纠缠动力学

该工作研究了由非均匀哈密顿量支配的双粒子系统中的纠缠动力学,该哈密顿量形式为 H = H_L + H_R,其中 H_L/R 仅作用于左侧或右侧区域,且在每个区域内是均匀的。该工作聚焦于 XX 链和横场伊辛链,推导了长时间流体动力学极限下两区域间纠缠熵的解析公式。在该机制下,入射到界面的费米子发生散射,在反射模和透射模之间产生纠缠。由此产生的准粒子图像由透射系数控制,该系数通过求解稳态晶格薛定谔方程解析得到。由于色散有界,强非均匀性抑制了输运和纠缠增长。该工作将解析预测与典型设置下的数值模拟进行了对比验证。最后,该工作利用 tDMRG 将分析扩展到相互作用的 XXZ 链。数值数据与二次情况定性一致:在强非均匀极限下,纠缠增长仍被抑制。然而值得注意的是,至少在中间时间尺度上,即使输运被抑制,纠缠仍持续增加。
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提交arXiv: 2026-05-02 20:07

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