桥接量子计算范式以实现半导体良率:面向晶圆图缺陷分类的有控连续变量与离散变量对比

在工业中实现量子神经网络(QNN)需要了解哪种量子计算范式适合哪类任务。受AI加速器和高带宽内存的启发(在这类器件中,芯片堆叠使得晶圆级缺陷筛选成为良率的关键),该团队在受控条件下研究了WM-811K晶圆图缺陷分类(八类),比较了连续变量(CV)和离散变量(DV)这两种主导范式。为了将量子电路作为唯一变量进行隔离,一个共享的卷积主干网络(约430万参数)为可互换的头部模块(经典全连接、CV-QNN或DV-QNN)提供输入,而这是结构上的唯一差异;每个量子头部模块按三种规模(3、4、8个量子模式/量子比特)进行缩放。CV头部模块的性能始终优于DV头部模块:在4个量子模式/量子比特下,CV达到79.7±1.8%的准确率,而DV为61.6±1.4%,两者存在18个百分点的非重叠差距。该优势在空间定位的边缘定位(Edge-Loc)缺陷类别上最为显著——该类别容易与划痕(Scratch)混淆,CV召回率达到0.66±0.06,而DV在所有规模下均失败(≤0.05),这表明结构化的CV层能更好地捕捉缺陷类型之间精细的空间差异。训练曲线显示,DV的局限性在于表示能力上限,而非优化失败;在本文采用的福克截断(d=2)下,CV的优势源于两个内在特性:一个结构化的、类似神经网络的层以及连续相空间编码,而非希尔伯特空间维度的优势。在IBM硬件上,DV的准确率在浅层电路下保持稳定,仅在最深电路时出现下降。两个量子头部模块的性能均低于经典基线(85.0%),但受控实验环境隔离了结构化头部模块已经能提供帮助的情况,并且随着噪声的降低和规模的扩大,明确了哪种范式能带来实际的优势。
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提交arXiv: 2026-07-01 13:58

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