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在超导量子电路中，空气桥对于消除共面波导电路的寄生槽线模式及降低直流磁通偏置间的串扰至关重要。本研究团队提出了一种超导空气桥的制备技术，该技术采用单层光刻胶并通过梯度曝光工艺定义空气桥轮廓。为确保精确获取桥体结构，研究人员基于残余光刻胶厚度和激光功率校准设计了曝光剂量方案。相较于其他空气桥制备技术，这种梯度曝光法能制备具有灵活尺寸的无损耗超导空气桥，因而更适用于大规模超导量子电路。此外，该方法降低了工艺复杂度，并实现了较高的制备良率。