2026年7月20日——Innolume已订购一台新的Veeco GEN2000分子束外延（MBE）系统，以进一步扩展其外延制造平台，并支持市场对用于硅光子学、下一代光收发器、AI基础设施和云数据中心的砷化镓（GaAs）基量子点光子产品日益增长的需求。

新增的MBE产能将强化Innolume的技术平台，并支持开发和生产具有出色温度稳定性、低功耗和长期可靠性的高性能量子点光子器件。

从外延到商业产品

Innolume开发专有量子点技术，并制造商业光子产品，包括DFB激光器、半导体光放大器（SOA）、梳状激光器及其他GaAs基器件。

通过在多特蒙德运营垂直整合的制造平台，Innolume得以控制从外延到商业产品的外延结构、器件设计、晶圆加工、镀膜、封装及产品质量。这种整合方法加速了技术开发，支持高效制造，并实现了新产品向规模化生产的快速转化。

扩展制造能力与产能

此外，Innolume正在部署Veeco的SPECTOR离子束沉积系统，以进一步扩展其在高性能减反射（AR）和高反射（HR）激光器端面镀膜方面的内部能力，提供更大的制造灵活性，并支持未来生产增长。

Veeco GEN2000的投资与Innolume的长期制造战略相辅相成。与此同时，该公司正在准备安装两台Riber MBE6000生产型反应器，计划于2026年第四季度投入使用。这些投资将共同进一步扩大Innolume的6英寸GaAs外延产能，同时使公司的MBE设备基础更加多元化。

这些投资共同强化了Innolume垂直整合的量子点技术平台。通过结合专有外延技术、器件设计、先进制造工艺和可扩展生产，Innolume正在构建所需的制造能力，以支持未来市场对用于硅光子学、光学互连、AI基础设施及其他先进光子学应用的高性能量子点光子产品的需求。